找出了一个小问题，不代表这次二硒化钨的数据分析就完成了。
这次徐川过来帮忙的目的是为了分析寻找在二硒化钨平铺的过程中到底是哪里阻碍了它完整的结晶的数据，而不是一开始就损耗了材料的问题。
当然，后者同样很重要，毕竟一个小小的峰段就直接影响了十来个百分点的成品率。
所以接下来的时间，他的导师和师兄们有的忙了。
如果想要在溶剂热法这条合成道路上走下去，那么这个小峰段到底是因为什么原因造成的必须找到。
至于徐川，在了解了这些实验数据对应的意义后，带着一些实验数据和资料回到了自己的宿舍。
他还是比较习惯在宿舍中或者图书馆中解决问题，前者安静无人打扰便于思考，后者则泛游于知识的海洋中，遇到什么问题可以第一时间去书架上找资料。
......
宿舍中，徐川将带回来的资料平铺在书桌上，仔细的翻阅起来。
虽说他已经知道了二硒化钨平铺失败的原因，但要将其用数学语言描述出来还是要花费点时间的。
“从实验数据来看，还原剂干扰二硒化钨材料的问题只出现正在溶剂热法上，其他的合成法并未出现类似的问题。”
“也就是说，问题要么出现在还原剂氢气上，那么则出现在热溶剂上。”
“不过这点暂时放下，这需要实验进行论证，而接下来，就是在平铺后期二硒化钨纳米片因范德华力而出现坍缩或卷叠的问题。”
“这个问题才是最核心的，但是要想解决，并不是那么容易......”
“在先排除掉的还原剂和基底影响的情况下，从实验数据来看，不同浓度的二硒化钨原料在平铺过程中也有影响.....”
匍匐在书桌前，徐川一边盯着带回来的数据一边在稿纸上写写画画。
“设浓度为R，时间为T，温度为C，压强为P，电流密度为A、还原剂浓度为H......二硒化钨纳米片的坍缩现象在固定TCPR内随着H的提升而总体上.....不变？”
“嗯？这什么鬼情况？”
将手中的数据计算了一遍后，徐川有些愕然的看着稿纸上的数据。
他都有些怀疑是不是自己算错了。
这怎么可能，坍缩卷叠问题不受还原剂浓度影响？
摇了摇头，徐川从另一份实验数据上取来数据，再度重新计算了一遍，但结果却依旧差不太多。
又计算了两次，得出的结果依旧如此，虽然每一次的结果都有细微的不同，但整体而言，从数据来看，坍缩卷叠的确是不受H浓度的影响。
这情况，让他皱起了眉头，他研究材料也这么多年了，这么诡异的情况还是第一次遇到。
“这可真有意思。”
徐川放下了手中的笔，身子往后一靠，倒在了椅背上，盯着有些灰白天花板沉思了起来。
对于一项材料的研发制备来说，温度、压强、原料浓度、时间、还原剂浓度等各种细节稍有些变化都会引起的成品的变化。
可现在导师的实验数据却告诉了他还原剂的浓度对成品的生成几乎没有任何影响。
也就是说，导师使用的还原剂氢气几乎不在二硒化钨纳米片的生成过程中起任何作用，这可能吗？
这比别人告诉他上帝是一只狗都要荒诞。
但他计算出来的数据却告诉他，事实就是这样的。
没有比这更荒诞的事情了。
“不，不对，还有一种可能性，那就是最低数值的氢还原剂的浓度已经完全饱和。”
“就像是你在一份饱和食盐水中再添加食盐一样，无论你加多少进去，它都已经融化不了了。”
“如果是这样的话，那的确影响很小。”
盯着天花板，徐川熟练的在脑海中思索着以前研究材料时遇到过的各种状况，将其套用在这份实验数据上。
“或许我应该建一个数学模型出来？来确定一下氢还原剂浓度等各项参数对于二硒化钨纳米片坍缩卷叠的影响？”
蓦的，徐川脑海中浮现出一个想法。
将数学模型应用于材料研发实验上并不是一件很罕见的事情。
通过建立适当的数学模型对实际问题进行研究，已成为材料科学研究和应用的重要手段，只是说并不是每一个实验室都有这样的能力。
毕竟大部分的材料实验涉及到的变量都相当多，实验过程也都是动态的，要建立一个精准的动态模型出来，哪怕是大学数学教授都要耗费很大的精力。
“做一个吧，正好前两天跟学姐那边有点交流，可以实战一下。”
想了想，徐川重新拾起纸笔，开始在稿纸上罗列变数和条件。
“设二硒化钨纳米片坍缩卷叠的速率为E，则E₁=∫²₁pgh/Am·sh（2C°²*pD）.....”
数学建模的确不是他的强项，以前做材料实验也都是请普林斯顿的其他数学教授来为他建模的，但是简单的对二硒化钨的实验数据做一个剖析，并进行数据挖掘和利用数学工具进行整合他还是做得到的。
毕竟他并不需要这个模型有多精确，只需要大致的确定氢还原剂在实验中到底有没有足够的影响就可以了。
时间一点一点的过去，很快，外面的天色便暗澹了起来。
整整一下午的时间，徐川都在整理实验数据，并且将有用的数据剖析出来列入execl表格中，方便后续的处理。
这是一项相当繁琐且需要耐心和细心的工作，一旦某个数据录错了，那到时候整出来的模型直接就废了。
就像财务核账一样，算到莫名其妙的发现公司账号多了十万块，还不知道是哪来的一样。
最后就只能辛辛苦苦的重新核对数据。
......